产品技术
主要产品
核心技术

CMP

CMP

运用先进的化学机械抛光(CMP)磨板技术去除铜柱顶部多余的半固化片材料,并采取无损检验的方法测量并控制经磨板抛光后的绝缘层厚度,以实现薄型化的封装基板。